Компания Samsung решила продлить жизненный цикл своего 8-нм техпроцесса 8LPU, который был представлен в 2017 году и не использовал дорогостоящую литографию EUV. Несмотря на появление более современных норм, спрос на эту технологию остается высоким, поэтому корейский производитель анонсировал ее обновление в виде платформы 8LPU+. Согласно планам Samsung, новая технологическая платформа должна быть представлена до конца текущего года.
По данным утечек, техпроцесс 8LPU+ обещает обеспечить прирост производительности на 12%, снижение энергопотребления на 15% и уменьшение площади логической части кристалла на 8%. Однако точность этих цифр пока вызывает сомнения, так как обычно при переходе на новый техпроцесс улучшают либо производительность, либо энергоэффективность, но не оба показателя одновременно. В отличие от современных 5-, 4- и 2-нм решений, использующих EUV, 8LPU+ основан на глубокой ультрафиолетовой литографии DUV с иммерсионным методом экспонирования. Это позволяет использовать имеющееся оборудование и избежать затрат на покупку дорогих EUV-сканеров, что упрощает планирование себестоимости и выход годных кристаллов.
Samsung ориентирует новую платформу на клиентов, для которых важны низкая цена, надежность и длительная доступность компонентов, а не максимальная скорость. Предполагаемые области применения включают автомобильные микроконтроллеры (MCU), зональные контроллеры автомобилей (ZCU), промышленные роботы и периферийные системы искусственного интеллекта. В 8LPU+ предусмотрена интеграция планарных устройств ввода-вывода на 3,3 В в FinFET-процесс, что сокращает площадь соответствующих цепей примерно на 10%. Для снижения энергопотребления в режиме ожидания используются сверхмалопотребляющая SRAM (ULL-SRAM) и транзисторы с высоким пороговым напряжением (cHVT). Также в архитектуру включена магниторезистивная память eMRAM, которая устойчива к температурным изменениям и обладает большим числом циклов перезаписи, что делает ее особенно подходящей для автомобильной индустрии.
